电子级四甲氧基硅烷-半导体抛光液

重点推荐

四甲氧基硅烷可以水解形成二氧化硅研磨粒子（硅溶胶），其分散性及选择性好，活性极强，易于处理过程清洗的废液，常用于硅、SiO₂层间介电层的抛光。

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四甲氧基硅烷-电子级

分子式：C₄H₁₂O₄Si

分子量：152

产品特性

四甲氧基硅烷可以水解形成二氧化硅研磨粒子（硅溶胶），其分散性及选择性好，活性极强，易于处理过程清洗的废液，常用于硅、SiO₂层间介电层的抛光。

四甲氧基硅烷的二氧化硅含量比四乙氧基硅烷的高，做成二氧化硅研磨粒子成本更低。

应用领域	半导体